Communiqués de presse
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POUR DIFFUSION IMMÉDIATE n° 3750
Système laser à ultraviolet profond compact à impulsions inférieures à la nanoseconde
TOKYO, 26 novembre 2024 - Mitsubishi Electric Corporation (TOKYO : 6503) a annoncé aujourd'hui avoir mis au point, en collaboration avec le RIKEN (Institut de recherche physique et chimique) et l'IMS (Institut de science moléculaire) des NINS (Instituts nationaux des sciences naturelles) japonais, un système laser à ultraviolet profond (DUV) à haute énergie et à impulsions courtes* (inférieures à la nanoseconde) qui atteint une énergie de sortie de 235 millijoules, soit l'énergie d'impulsion** la plus élevée au monde. Le système laser compact et portable a été installé dans une zone dédiée de l'installation du RIKEN à l'IMS au Japon, où il sera utilisé pour la recherche et le développement d'accélérateurs.
Des impulsions inférieures à la nanoseconde ont été obtenues en utilisant un laser à micropuce capable de générer des impulsions extrêmement courtes, et l'optimisation du diamètre du faisceau a permis d'obtenir une énergie de sortie élevée. En outre, la technologie co-développée Distributed Face Cooling est mise en œuvre dans une puce à forte dissipation thermique mise au point par le RIKEN et l'IMS, ce qui permet au laser de classe joule de fonctionner à température ambiante, contrairement aux lasers conventionnels à haute puissance qui nécessitent un refroidissement à basse température.
À l'avenir, Mitsubishi Electric continuera à faire progresser sa technologie d'accélération laser et la miniaturisation des systèmes laser, contribuant ainsi à l'innovation technologique dans un large éventail de domaines.
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